水的纯度对于微电子的生产至关重要。水中的污染物会影响产品质量，特别是在生产微电子元件的半导体行业。因此，在这种情况下，只能使用***高纯度的水，如超纯水。
 

专为满足微电子行业的高脱硼（硼的去除率 ≥ 99.8%）和高质量要求进行了性能优化
IONPURE® VNX ULTRA 大流量膜堆采用成熟的 IONPURE® 连续电去离子 (CEDI) 技术设计，可生产超高纯度的水。单通道VNX ULTRA消除了对传统硼选择性树脂的依赖，可将半导体厂的超纯水系统的成本降低数百万美元。它还消除了每两年更换一次BSR树脂的相关运营成本。VNX Ultra的硼去除率≥ 99.8%，也可以消除对昂贵混床抛光树脂的需求。
 

专为TOC去除而设计的紫外线系统
在用于这些生产活动的超纯水系统中，将总有机碳（TOC）水平降至***低至关重要，因为TOC会留下残留物，并对***终产品造成小的缺陷。Evoqua懿华的ATGTM VT TOC系列紫外线消毒系统是为微电子行业的超纯水工艺中显著地降低TOC而设计的。

在***终抛光之前，通常将安装降低TOC的UV装置，作为整个超纯水处理工艺的一部分。紫外线装置将UPW暴露在185nm的紫外线下。这种波长的紫外线产生了一种短寿命的羟基自由基，能够以足够的紫外线能量将TOC分解成二氧化碳。因此，有效降低TOC紫外线装置的关键是***大限度地提高185nm处的紫外线输出。

Evoqua懿华的VT TOC系列仅使用灯具结构中*****的材料，提供市场***水平的185nm紫外灯和较长的工作寿命（16000小时）。VT TOC系列使用大功率灯，以尽量减少安装在系统中的总的灯的数量。